رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما (PACVD)

نام دستگاه: رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما (PACVD)

Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition

نام شرکت سازنده: شرکت پلاسما فن اور امین

استفاده از پلاسما برای لایه نشانی شیمیایی از بخار (PACVD) باعث می شود که واکنش شیمیایی تشکیل لایه در دمایی به مراتب پایین‌تر (550-450 درجه سانتیگراد) از لایه نشانی شیمیایی بخار معمولی (CVD) که در دمای 900-1000 درجه سانتیگراد، انجام می‌گیرد، صورت پذیرفته و لایه مورد نظر ایجاد شود.

برای انجام این فرآیند، ابتدا نمونه ها را در محیط پلاسمای گاز خنثی مثل آرگون و هیدروژن، تحت تمیزکاری سطحی قرار داده و دمای آنها را به مقدار مورد نظر می رسانند. سپس گاز عملیات که مخلوطی است از گازهای نیتروژن، هیدروژن، آرگون و بخار TiCl4 با نسبت های معین وارد محفظه شده و در نهایت با کنترل دیگر پارامترها مثل دما، زمان، فشار، فرکانس و عرض پالس، لایه نشانی صورت می پذیرد.

با استفاده از این روش می توان پوشش‌های دوتایی، سه تایی، چهارتایی به‌صورت تک لایه یا چند لایه نظیرTiN ، TiC، CNTi، TiAlN، TiBN، TiAlCN و غیره را ایجاد کرد.

 مزیت های دستگاه  رسوب نشان شیمیایی از بخار به کمک پلاسما به این صورت است که با دارا بودن این سیستم امکان انجام فرایند نیتراسیون و متعاقب آن فرایند لایه نشانی وجود دارد به این ترتیب پوشش های فوق سخت بر روی بستر ی با سختی مناسب قرار می گیرند که این امر موجب افزایش استحکام، چسبندگی و مقاومت آن می شود.

این دستگاه قابلیت نیتراسیون پلاسمایی فولادهای صنعتی، ابزار،  تندبر و ... را دارد. همچنین نیتراسیون پلاسمایی فلزاتی مانند آلومینیوم و تیتانیم نیز به کمک این دستگاه قابل انجام است. لایه نیتریدی تولید شده سبب افزایش سختی و مقاومت به خوردگی فلزات مذکور می­شود.

هزینه آنالیز :

نیتراسیون پلاسمایی          به ازای هر ساعت 400,000  ریال

پوشش دهی با TiN         به ازای هر ساعت 500,000 ریال

سایر پوشش ها               به ازای هر ساعت 600,000 ریال

تهیه گازها و مواد اولیه انواع پوشش ها به عهده مشتری می­باشد.

زمان از لحظه شروع پلاسما تا انتهای عملیات (خاموش کردن پلاسما) محاسبه خواهد شد.

سرپرست آزمایشگاه: آقای دکتر توتونچی

زمینه تخصصی: مهندسی مواد

شماره تماس: 33393932-041